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英飞凌投资约11亿欧元建300mm GaN量产厂

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报道摘要

英飞凌2026年10月27日宣布,将在奥地利菲拉赫现有洁净室基础上建设300毫米晶圆氮化镓(GaN)功率半导体量产设施,到2034年投资约11亿欧元,计划2027年底前投产。

摘自 英飞凌·官方公司与芯片新闻

报道时间线

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10月27日
  1. 英飞凌·官方公司与芯片新闻精选
    英飞凌宣布在奥地利菲拉赫建设300毫米GaN功率半导体量产基地,投资约11亿欧元

    英飞凌2026年10月27日宣布,将在奥地利菲拉赫现有洁净室基础上建设300毫米晶圆氮化镓(GaN)功率半导体量产设施,到2034年投资约11亿欧元,计划2027年底前投产。

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